Intel plant 14-Nanometer-Fertigung ab Ende 2013

News  / Niklas Ludwig

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Ende 2013 soll Intels hauseigene Fertigungsstätte auf das neue Fertigungsverfahren von 14 Nanometer umgestellt werden. Das bestätigte der Konzern nun auf dem Intel Developer Forum.

Die drei Werke D1X in Orgeon (USA), 42 in Arizona (USA) und das Werk 24 (Irland) sollen durch Investitionen ebenfalls ab spätestens 2014 in der Lage sein im neuen Fertigungsverfahren zu produzieren. 2015 soll die Arbeit am 10-, 7-, und 5-Nanometer-Verfahren beginnen. Durch kleine Fertigungsverfahren wird erreicht, dass der Strombedarf und die Hitzeentwicklung bei gleicher Leistung sinken. Zudem werden so schnellere Taktraten ermöglicht, da auf derselben Fläche mehr Schaltungen Platz finden.


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